氟化铵是氟化工行业中应用广泛的一种氟化工产品，氟化铵是无色叶状或针状结晶，在空气中易潮解，易溶于水，水溶液呈酸性，受热分解放出有毒的腐蚀性烟气。氟化铵的主要用途有：冶金土业用作提取稀有金属；玻璃工业用作蚀刻剂；酿造工业用作啤酒消毒的细菌抑制剂；机械工业用作金属表面化学抛光剂；木材工业用作腐蚀剂；化学分析中用作离子检测的掩蔽剂、含量的点滴试剂、结合滴定铝的沉淀剂；用于配置滴定液来测定铜合金中铅、铜、锌成分，铁矿石和煤焦油。

　　氟化铵的生产工艺可分为气相法和液相法两种方法。气相法合成氟化铵由于工艺过程不接触水，产品含水量低、纯度高、颗粒粒度细，能满足电子行业和医药行业的要求，但气相法生产氟化铵对工艺要求很高的密封性，对设备要求很高，而且投资很大。液相法由于设备简单，工艺条件及设备操作易于控制得到广泛应用，目前国内普遍采用液相法制备氟化铵。但液相法制备的氟化氢铵含水量高、纯度低、长期储藏会出现吸潮结块等现象，不能适应要求较高的电子工业、医药工业等行业的需要。通常仅能达到工业级要求。

CN200910102715.7提供一种产品纯度高、生产成本低 且能满足较高要求的高纯氟化铵的制备方法。包括以下步骤：

　　(1)向质量浓度8-50％氟化铵溶液中加入氨水或液氨除去原料中的氟硅酸铵杂质，氨水或液氨的添加量为理论量的120-200％，反应10-60min， 氟化铵溶液中的氟硅酸铵经氨水或液氨氨化后化生成二氧化硅沉淀；

　　(2)向上述步骤(1)处理后的氟化铵溶液中加入氢氧化钡除去硫酸盐杂质，为了不引入钡盐杂质，氢氧化钡的加入量为理论量90-99％，氢氧化钡使氟化铵溶液中的硫酸盐生成硫酸钡沉淀，同时氢氧化钡也可以与步骤(1)中未脱除干净的氟硅酸盐反应生成不溶于水的六氟硅酸钡沉淀，反应10-60min，过滤经过处理后的氟化铵溶液，分离出其中的二氧化硅、硫 酸钡和六氟硅酸钡沉淀，滤液为氟化铵溶液；

　　(3)将滤液在真空度为-0.092--0.030Mpa，温度为25-106℃下，加热浓缩36-65min，待溶液突然析晶后停止加热；

　　(4)将析晶后的氟化铵溶液转移到结晶器中，结晶温度控制在-10-25℃，结晶结束后对氟化铵进行固液分离，分离出氟化铵滤液，得到的氟化铵晶体在60-95℃之间下进行干燥处理，经干燥处理后，即得到高纯氟化铵产品。

　　用于制备一种非离子型低表面张力的酸性氟化铵蚀刻液TFT 基板上设置有大量的薄膜、薄层，所以为了防止这些之间发生不希望的电短路，优选将蚀刻后的基板的切断侧面即蚀刻轮廓 (profile) 均等地倾斜，且下方比上方宽，为钝锥 (taper) 形状。这是由于蚀刻轮廓为钝锥形状的情况下，所形成的 2 个以上的薄膜层之间的高度差会减少。蚀刻方法具有利用气体的干式蚀刻和利用蚀刻液的湿式蚀刻，尽管湿式蚀刻具有缺点，但是其工序所需的设备投资费用低，无需将蚀刻环境维持在高真空状态，对掩模和基板均有优异的蚀刻选择性。主要成分为氢氟酸（HF）和氟化铵（NH4F）的酸性氟化铵蚀刻液又称为B.O.E. (Buffered Oxide Etch)蚀刻液，在半导体工业中也常广泛使用于蚀刻无光刻胶护罩的氧化层。